光刻机
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半导体设备行业快报：65NM ARF光刻机官宣 国产光刻机行则将至
65nm ArF 光刻机官宣，参数对标ASML1460K 及Nikon S322F。为促进首台（套）重大技术装备创新发展和推广应用，加强产业、财政、金融、科技等国家支持政策的协同，工业和信息化部印发《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024 年版）》。
财经研究
2024-09-19
光刻机行业：国之重器 路虽远行则将至
光刻机被誉为半导体工业皇冠上的明珠，光刻是半导体芯片生产中最复杂、关键一环。光刻机是芯片制造流程中的核心设备，其光刻的工艺水平直接决定芯片的制程、性能，被誉为半导体工业皇冠上的明珠。光刻是半导体芯片生产中最复杂、关键步骤，耗时长、成本高。光刻机原理类似相机照相，发出光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后发生性质变化，使图形复印到薄片上，使薄片具电子线路图作用。其中分辨率直接决定制程，是最重要的指标；套刻精度影响良率；生产效率影响产能及经济性。
财经研究
2024-08-23
光刻机行业深度研究报告：核心“卡脖子”设备 国产替代蓄势待发
光刻机是半导体制造过程中价值量和技术壁垒最高的设备之一。全球光刻机市场规模超230 亿美元，ASML 处于绝对领先，国内市场规模超200 亿元，但是国产化率仅2.5%。目前半导体制造工艺节点缩小至5nm 及以下，曝光波长逐渐缩短至13.5nm，光刻技术逐步完善成熟，但是国内光刻机仍明显落后ASML。
财经研究
2023-10-23
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