光刻机
109348
0
1
2025-2031年中国光刻机产业发展态势及投资决策建议报告
《2025-2031年中国光刻机产业发展态势及投资决策建议报告》共十一章,包含光刻机行业发展趋势分析,2025-2031年中国光刻机的投资风险与投资建议,研究结论及发展建议等内容。
2025-2031年中国光刻机产业竞争现状及市场发展策略报告
《2025-2031年中国光刻机产业竞争现状及市场发展策略报告》共十章,包含2025-2031年行业前景及趋势预测,2025-2031年光刻机行业投资策略研究,光刻机行业发展战略研究等内容。
研判2025!中国光刻机行业产业链、产业现状、竞争格局及未来前景:行业高度依赖进口,国产光刻机任重道远[图]
近年来,消费电子领域的需求呈现出相对低迷的态势,然而,在这样的大环境下,电动汽车、风光储以及人工智能等崭新的需求领域却异军突起,成为了半导体产业持续成长的强劲新动能。在这些新兴需求的有力推动下,全球光刻机应用需求不断增加,市场规模实现了平稳增长。数据显示,2023年,全球光刻机市场规模已增长至271.3亿美元,2024年有望进一步增至315亿美元。
半导体设备行业快报:65NM ARF光刻机官宣 国产光刻机行则将至
65nm ArF 光刻机官宣,参数对标ASML1460K 及Nikon S322F。为促进首台(套)重大技术装备创新发展和推广应用,加强产业、财政、金融、科技等国家支持政策的协同,工业和信息化部印发《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024 年版)》。
光刻机行业:国之重器 路虽远行则将至
光刻机被誉为半导体工业皇冠上的明珠,光刻是半导体芯片生产中最复杂、关键一环。光刻机是芯片制造流程中的核心设备,其光刻的工艺水平直接决定芯片的制程、性能,被誉为半导体工业皇冠上的明珠。光刻是半导体芯片生产中最复杂、关键步骤,耗时长、成本高。光刻机原理类似相机照相,发出光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光,光刻胶见光后发生性质变化,使图形复印到薄片上,使薄片具电子线路图作用。其中分辨率直接决定制程,是最重要的指标;套刻精度影响良率;生产效率影响产能及经济性。
光刻机行业深度研究报告:核心“卡脖子”设备 国产替代蓄势待发
光刻机是半导体制造过程中价值量和技术壁垒最高的设备之一。全球光刻机市场规模超230 亿美元,ASML 处于绝对领先,国内市场规模超200 亿元,但是国产化率仅2.5%。目前半导体制造工艺节点缩小至5nm 及以下,曝光波长逐渐缩短至13.5nm,光刻技术逐步完善成熟,但是国内光刻机仍明显落后ASML。
2022年中国光刻机行业发展现状:国产光刻机需求上涨,推动行业加速发展[图]
半导体是光刻机的主要应用领域之一,中国政府出台一系列政策支持半导体产业,包括资金支持、税收优惠等,刺激了国内半导体制造业的发展,进而推动了光刻机市场规模的上涨。2022年中国光刻机行业市场规模约为147.82亿元。从区域分布来看,中国光刻机行业华东地区占比最重,占比为51.8%。
2021年中国光刻机产业链分析:国内光刻机对外依存度过大[图]
2021年,ASML出货了EUV光刻机总计多达42套,同比增涨35.48%;实现营收63亿美元,同比增涨41.14%。
2015-2019年中国制半导体器件或集成电路用的分步重复光刻机(84862031)进出口数量、进出口金额统计
根据中国海关数据显示:2019年1-12月中国制半导体器件或集成电路用的分步重复光刻机进口数量为147台,进口金额为94072.97万美元;2019年1-12月制半导体器件或集成电路用的分步重复光刻机出口数量为41台,出口金额为4381.85万美元。